半導體生產是一個高科技產業，但是在生產過程中也會產生大量的廢氣，這些廢氣對環境和人體健康都有一定的影響，因此必須進行處理。那么，在廢氣處理工藝中，哪種方式呢？本文將為您詳細介紹。

一、活性炭吸附法

活性炭吸附法是一種常見的廢氣處理方式，該方法適用于處理低濃度的有機廢氣。廢氣通過活性炭床層時，有機物質被吸附在活性炭表面，從而達到凈化的目的。該方法具有投資成本低、操作簡單等優點，因此在半導體生產中被廣泛應用。

二、等離子體處理法

等離子體處理法是一種高科技的廢氣處理方式，該方法適用于處理高濃度的有機廢氣。廢氣通過等離子體反應器時，通過高能電子的撞擊使有機物質分解成小分子，再通過催化劑的作用進一步分解，終達到凈化的目的。該方法具有凈化效率高、處理能力強等優點，因此在高端半導體生產中得到廣泛應用。

綜上所述，活性炭吸附法和等離子體處理法是半導體生產廢氣處理中的兩種方式。在選擇時應根據實際情況進行選擇，以達到的凈化效果。